東莞鋅鋁合金電鍍工藝核心提示：3. 要點(diǎn)掌握3.1 鍍前處理3.1.1 磨拋光由于壓鑄件硬度低缴啡、質(zhì)軟、底層薄瓷们，磨拋時(shí)轉(zhuǎn)速不宜過快，壓力不宜過大秒咐，否則會引起拋光膏
3. 要點(diǎn)掌握
3.1 鍍前處理
3.1.1 磨拋光
東莞鋅鋁合金電鍍由于壓鑄件硬度低谬晕、質(zhì)軟、底層薄携取，磨拋時(shí)轉(zhuǎn)速不宜過快攒钳，壓力不宜過大，否則會引起拋光膏雷滋、金剛砂嵌入基本影響電鍍質(zhì)量不撑，切忌干磨(不用拋光膏)，會使局部過熱和磨削量過多晤斩，導(dǎo)致致密表層破壞焕檬，既影響表面光亮度，鍍后又容易起泡澳泵，注意拋光膏不能使用過多实愚，否則冷卻后粘附在基體上不易去除南昌影響電鍍質(zhì)量，一旦發(fā)現(xiàn)孔眼與邊角殘留拋光膏兔辅，立即人工剔除后速轉(zhuǎn)下道工序腊敲，避免存放變色或腐蝕。磨拋是鍍好壓鑄件的基礎(chǔ)维苔，決不能等閑視之碰辅。
3.1.2 除油
鋅合金壓鑄件的油污主要來自模具的脫模與拋光膏，尤其孔眼與裂紋中夾附的油污和拋光膏不清除干凈便會影響電鍍質(zhì)量介时。
由于鋅壓鑄件的化學(xué)特性没宾，除油液中不宜過強(qiáng)堿(氫氧化鈉)與水玻璃(硅酸鈉)忍法。強(qiáng)堿使富鋁想先溶解，導(dǎo)致壓鑄件表面針孔腐蝕榕吼，進(jìn)入針孔內(nèi)的殘留堿液饿序，容易使鍍層起泡;水玻璃清洗困難，容易使鍍層產(chǎn)生條紋羹蚣。
在裝飾電鍍中原探，一般都應(yīng)兩次除油，即先化學(xué)除油后電解除油顽素。壓鑄件電解除油不能掛在鍍鉻掛具上咽弦，否則掛具上殘留Cr6+帶入除油液，蓄積到一定值時(shí)胁出，除油液將從無色逐漸變?yōu)辄S色型型，導(dǎo)致壓鑄件表面產(chǎn)生密集細(xì)泡，影響電鍍質(zhì)量全蝶。
由于本工藝采用低濃度低溫度鍍鉻工藝闹蒜，并非標(biāo)準(zhǔn)鍍鉻工藝，因而下述方面需注意掌握
3.2.3.1鉻酐含量控制
本工藝CrO3為100~150g/L抑淫，能獲光亮鉻鍍層绷落。CrO3高于上限，雖然溶液導(dǎo)電性增強(qiáng)始苇，分散能力與深鍍能力得到改善砌烁，但卻失去低鉻鍍鉻的意義;低于下限，陰極電流效率提高催式，但鉻層易出現(xiàn)彩色蘭膜與黃膜函喉，有時(shí)也出現(xiàn)灰綠色膜。只要將CrO3控制在工藝范圍荣月，這些鍍層質(zhì)量故障便可消除管呵。
3.2.3.2 硫酸濃度的影響
鍍鉻液沒有硫酸則無鉻層沉積。硫酸濃度高于上限喉童，鍍液深鍍能力降低撇寞，Cr3+升高，有的孔隙或凹部甚至無鍍層沉積;低于下限堂氯，鍍層光亮度差且發(fā)花蔑担，沉積速度和陰極電流效率降低，甚至鍍層有蘭膜咽白。含量高用BaCO3處理啤握，每2g BaCO3可沉淀H2SO4 1g，低時(shí)則用稀硫酸調(diào)整晶框。含量掌握在工藝范圍為好排抬。
3.2.3.3Cr3+的含量不能忽視
本工藝Cr3+為1.1~.14g/L懂从。含量過高，深鍍能力下降蹲蒲，邊緣效應(yīng)增加番甩，鍍層結(jié)晶粗糙;含量過低，沉積速度慢届搁，深鍍能力差缘薛，低電流區(qū)易產(chǎn)生黃膜。Cr3+卡睦、H2SO4與陽極電流密度成正比宴胧，Cr3+低、H2SO4低表锻，Dk也低恕齐，反之則高，Cr3+偏低時(shí)可用無水乙醇提高瞬逊，即1ml無水乙醇提高Cr3+0.387g显歧。
3.2.3.4溫度控制
本工藝為室溫，一般在10~40OC范圍內(nèi)可獲得良好的鉻鍍層码耐，最佳值25~35OC追迟，但是溫度卻受鉻酐含量的影響。CrO3低于100g/L時(shí)骚腥，溫度可高于上限，電流也取上限(8~10A/dm2);CrO3高于150g/L時(shí)瓶逃，溫度可在下限束铭，電流也取下取(4~7A/dm2),注意溫度控制，電鍍成品率提高厢绝。
3.2.3.5鉻層異常色澤的消除
正常鉻鍍層是光高悅目的契沫，如果出現(xiàn)彩色蘭膜、黃膜或灰綠色時(shí)昔汉，主要是鉻酐濃度低懈万，Cr3+含量高，H2SO4偏低靶病，可分析調(diào)整会通。黃膜還存在Dk小，電鍍時(shí)間短娄周，灰綠色則是 Dk大涕侈，適當(dāng)調(diào)整即可。
3.2.3.6 ZD添加劑
ZD添加劑的加入煤辨，主要使陰極附近pH升高裳涛，析氫過電位增大木张，極化電流變小，有利于在低溫端三、低濃度下將鉻酸根還原為金屬鉻舷礼，提高了陰極電流效率。ZD添加劑同H2SO4一樣郊闯，不參加電沉積妻献，只起催化作用，其含量卻影響著鍍鉻質(zhì)量虚婿。高于上限旋奢，鍍液爭散能力下降，光亮區(qū)變窄然痊，高電流區(qū)易發(fā)灰至朗。ZD添加劑低級于下限，深鍍能力差剧浸。鉻酐與添加劑的補(bǔ)加量比值為100:0.8~1锹引。
3.2.3.7雜質(zhì)去除
鋅合金壓鑄件鍍鉻液的金屬雜質(zhì)，主要是Zn2+,Ni2+,Cu2+很少唆香，F(xiàn)e2+沒有嫌变，將掉入鉻槽的壓鑄件及時(shí)撈出，是減少Zn2+與Ni2+雜質(zhì)的最有效措施躬它。當(dāng)金屬雜質(zhì)影響鍍鉻質(zhì)量時(shí)腾啥，可更換部份鍍液或用dt001大孔陽離子樹脂處理[2]。非金屬雜質(zhì)主要是Cl-,含量在0.5g/L時(shí)冯吓，鍍液電流效率倘待、深鍍能力、結(jié)合力顯著下降组贺，鍍層光亮度低凸舵，嚴(yán)重的發(fā)灰，甚至脫皮失尖。去除Cl-的最好方法是用蒸餾水或去離子水配鉻槽啊奄，活化清洗也如此，其次是將鍍液加溫至65OC左右掀潮，電解去除菇夸。NO3-上鍍鉻液最有害雜質(zhì)，微量NO3-都會使鍍層發(fā)灰發(fā)暗胧辽，低凹部位無鉻層峻仇。去除方法，先用碳酸鋇將鍍液中SO4-去除掉邑商，再將溶液加溫60~80OC摄咆，以30~40A/dm2大電流電解處理去除凡蚜。
4 不合格鍍層的退除
4.1鉻鍍層的去除
鋅合金壓鑄件在電鍍過程中出現(xiàn)的鍍層質(zhì)量故障，只要不脫皮吭从，不起泡朝蜘，不露出基體，是鉻層問題涩金，在鹽酸液中退除谱醇，經(jīng)活化后重新鍍鉻即可;是鎳層問題，如針孔步做、麻點(diǎn)等副渴，活化后補(bǔ)鍍亮鎳，鍍層適當(dāng)加厚全度，以沒有針孔麻點(diǎn)為宜煮剧。
4.2 鎳鉻層退除
鋅壓鑄件的鍍層已露出基體，則需將鎳鉻鍍層全部退除将鸵，不宜用化學(xué)法勉盅，采用陽極電解退除，效果良好顶掉，配方如下：
NH4NO3 60~80g/L
N(CH2CH2OH)3 20~40ml/L
ZH添加劑 5~10ml/L
pH 6.5~8
θ 室溫
DA 1~5A/dm2
Dk 不銹鋼板
Sk:SA 2~3:1
5 結(jié)語
綜上所述草娜，以東莞鋅鋁合金電鍍作為新型防盜鎖材質(zhì)進(jìn)行電鍍的關(guān)鍵，在于要針對鑄件的化學(xué)特性及其表面層結(jié)構(gòu)特性痒筒，認(rèn)真加強(qiáng)壓鑄件基體溫表的磨拋光與鍍前處理宰闰，把好電鍍中性鎳的質(zhì)量關(guān)，特別是壓鑄件深孔簿透，盲孔和深凹部位必須有鍍層议蟆，這樣常規(guī)亮鎳，亮鉻的電鍍便能正常進(jìn)行萎战，鍍層質(zhì)量故障顯著降低，成品率大幅度提高舆逃。
